利用光致聚合物光栅记录模拟

资 源 简 介

利用光致聚合物光栅记录模拟

详 情 说 明

光致聚合物光栅记录模拟是研究光学材料特性与全息存储技术的重要方法。通过模拟光致聚合物材料在干涉光场作用下的反应过程，可以预测光栅形成的动力学行为和最终衍射效率，为实验设计提供理论依据。

核心原理基于光致聚合物的光化学反应特性。当两束相干光在材料内部形成干涉条纹时，材料中的单体分子会在亮区发生聚合反应，导致局部折射率周期性调制，最终形成相位型或振幅型光栅。模拟需考虑光照强度、曝光时间、材料扩散系数等参数对光栅形成过程的影响。

典型的模拟流程包含三个关键环节：首先建立干涉光场的空间分布模型，通常采用余弦函数描述光强变化；其次通过耦合波方程或扩散方程计算单体聚合与材料折射率变化的动态过程；最后利用Kogelnik耦合波理论分析光栅的衍射效率特性。

这种模拟方法可显著降低实验成本，帮助优化光栅参数（如周期、调制深度），在体全息存储、光学传感器等领域具有广泛应用价值。