通过测量光学薄膜的反射率曲线反演其光学常数

资 源 简 介

通过测量光学薄膜的反射率曲线反演其光学常数

详 情 说 明

通过测量光学薄膜的反射率曲线反演其光学常数（包括厚度与折射率）是一种广泛应用于光学薄膜设计与表征的重要技术。该方法利用反射光谱数据，结合数学模型与优化算法，逆向推导出薄膜的关键参数。

反射率曲线通常由分光光度计测量得到，记录了不同波长下薄膜的反射率变化。由于薄膜的反射特性与厚度、折射率以及入射光的角度密切相关，通过建立光学模型（如传输矩阵法或多层膜干涉理论），可以模拟反射率曲线随参数的变化规律。

反演过程的核心是优化算法，如最小二乘法或遗传算法，通过调整参数使模拟曲线与实测曲线尽可能吻合。这一过程需要合理的初始猜测值，以避免陷入局部最优解。折射率的色散关系（如Cauchy或Sellmeier模型）通常也被纳入模型，以提高反演精度。

该方法广泛应用于光学镀膜、半导体工艺及显示技术中，为薄膜设计与质量控制提供了重要依据。