基于Mask与Wallis滤波的匀光处理对比系统
项目介绍
本项目实现了一套用于对比分析Mask掩模匀光与Wallis滤波匀光算法的图像处理系统。系统通过两种不同的技术方法消除图像中的光照不均问题,并提供可视化界面和客观评价指标,帮助用户直观比较不同匀光算法的处理效果和性能差异。
功能特性
- 双算法对比:集成基于Mask掩模的匀光处理和Wallis滤波匀光两种经典算法
- 可视化展示:同时显示原始图像、Mask匀光结果和Wallis处理结果
- 批处理支持:支持多组图像批量处理与对比分析
- 参数可调:提供灵活的算法参数配置选项
- 客观评价:包含标准差、信息熵等图像质量评价指标定量比较
- 结果导出:生成处理结果图像、对比图表和参数记录报告
使用方法
- 图像输入:选择单张或多张RGB/灰度图像(支持jpg、png、tiff格式)
- 参数设置:
- Mask匀光参数:高斯核大小、标准差等
- Wallis滤波参数:滤波强度、动态范围调整系数等
- 处理执行:启动匀光处理流程,系统自动进行双算法并行处理
- 结果查看:在可视化界面中观察处理效果对比
- 指标分析:查看客观评价指标表格,了解算法性能差异
- 结果导出:保存处理后的图像、对比图和评价报告
系统要求
- MATLAB R2018b或更高版本
- Image Processing Toolbox
- 至少4GB内存(处理大图像时推荐8GB以上)
- 支持常见图像格式的读写功能
文件说明
主程序文件整合了系统的核心处理流程,实现了图像加载与格式转换、Mask匀光算法的参数配置与执行、Wallis滤波处理的功能实现、多图像批处理的任务调度、处理结果的可视化对比展示、图像质量评价指标的计算分析,以及结果数据与报告的生成输出功能。